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Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡

簡要描述:Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括515 nm,800 nm,1030 nm和寬帶720-880 nm范圍,反射值R> 99.8%。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:1040

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光鏡


Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡

高損傷閾值激光鏡,專為飛秒激光器設(shè)計。使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。

產(chǎn)品介紹

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括515 nm,800 nm,1030 nm和寬帶720-880 nm范圍,反射值R> 99.8%。

在ISO標準21254-2 1000-on-1條件下,以50 fs脈沖,100 Hz在反射鏡設(shè)計波長下測量激光誘導的損傷閾值。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

設(shè)計波長 - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0343PHR

343 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.8%

>0.4 J/cm²

041-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.8%

>0.4 J/cm²

042-0343PHR

343 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.8%

>0.4 J/cm²

042-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.8%

>0.4 J/cm²

045-0343PHR

343 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.8%

>0.4 J/cm²

045-0343PHR-i0

343 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.8%

>0.4 J/cm²

設(shè)計波長 - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0515T6HHR

500-530 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

041-0515T6HHR-i0

500-530 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

042-0515HHR

500-530 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

042-0515HHR-i0

500-530 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

045-0515T12HHR

500-530 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

045-0515T12HHR-i0

500-530 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

設(shè)計波長 - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-0800T6HHR

760-840 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

041-0800T6UHHR

760-840 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>0.4 J/cm²

041-0800T6HHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

041-0800T6UHHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>0.4 J/cm²

041-0800T6HHR-i0-45

760-840 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

0-45°

99.9%

>0.15 J/cm²

042-0800HHR

760-840 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

042-0800UHHR

760-840 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>0.4 J/cm²

042-0800HHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

042-0800UHHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>0.4 J/cm²

042-0800HHR-i0-45

760-840 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

0-45°

99.9%

>0.15 J/cm²

045-0800T12HHR

760-840 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>0.15 J/cm²

045-0800T12UHHR

760-840 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>0.4 J/cm²

045-0800T12HHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>0.15 J/cm²

045-0800T12UHHR-i0

760-840 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>0.4 J/cm²

045-0800T12HHR-i0-45

760-840 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

0-45°

99.9%

>0.15 J/cm²

設(shè)計波長 - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

081-7288HHR

720-880 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.8%

>0.25 J/cm²

081-7288HHR-i0

720-880 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>0.25 J/cm²

082-7288HHR

720-880 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.8%

>0.25 J/cm²

082-7288HHR-i0

720-880 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>0.25 J/cm²

085-7288T12HHR

720-880 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.8%

>0.25 J/cm²

085-7288T12HHR-i0

720-880 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>0.25 J/cm²

087-7288HHR

720-880 nm

UV FS

ø76.2 x 15 mm

45°

99.8%

>0.25 J/cm²

087-7288HHR-i0

720-880 nm

UV FS

ø76.2 x 15 mm

99.9%

>0.25 J/cm²

設(shè)計波長 - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz

型號

波長

材料

尺寸

AOI

R, % (S+P)/2

激光損傷閾值

041-1030T6HHR

1000-1060 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.9%

>0.3 J/cm²

041-1030T6HHR-i0

1000-1060 nm

UV FS

ø12.7 x 6 mm

99.9%

>0.3 J/cm²

042-1030HHR

1000-1060 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.9%

>0.3 J/cm²

042-1030HHR-i0

1000-1060 nm

UV FS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

>0.3 J/cm²

045-1030T12HHR

1000-1060 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

45°

99.9%

>0.3 J/cm²

045-1030T12HHR-i0

1000-1060 nm

UV FS

ø50.8 x 12 mm

99.9%

>0.3 J/cm²

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

直徑公差

+0.00 mm / -0.12 mm

厚度公差

±0.25 mm

< 3 min

倒角

0.3 mm at 45° typical

 

鍍膜

技術(shù)

離子束濺射(IBS)

附著力和耐久性

根據(jù)MIL-C-675A,不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過直徑的85%

鍍膜表面平整度

透明孔徑下633 nm處的λ/ 10

激光引起的損傷閾值

在設(shè)計波長,50 fs脈沖,100 Hz下測量

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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